Cílem projektu je studium prvkových poměrů v deponovaných keramických vrstvách připravovaných plazmovými nástřiky. Znalost hloubkového rozložení (depth profiling) prvků je důležitou informací pro optimalizaci depozičních procesů. Depth profiling se provádí ablací laserovým paprskem a získaný suchý aerosol se zavádí do indukčně vázaného plazmového zdroje (ICP), který slouží buď jako zdroj optického záření (optické emisní spektrometrie - OES) nebo jako ionizační zdroj pro hmotnostní spektrometr (MS). Interakce laserového záření se vzorkem je dále studována pomocí videokamery CCD s vysokým časovým rozlišením - záznam mikroplazmatu na povrchu vzorku a vzniklé krátery se proměřují regusimetrem a elektronovým skanovacím mikroskopem. Práce směřuje k vypracování kvantitativní analytické metody (standardy, kalibrace).

Publications