Informace o projektu
Optimalizace vrstevnatých systémů používaných v optickém průmyslu
- Kód projektu
- TA02010784 (kod CEP: TA02010784)
- Období řešení
- 1/2012 - 12/2015
- Investor / Programový rámec / typ projektu
-
Technologická agentura ČR
- ALFA
- Fakulta / Pracoviště MU
-
Přírodovědecká fakulta
- prof. RNDr. Ivan Ohlídal, DrSc.
- Mgr. Daniel Franta, Ph.D.
- Mgr. David Nečas, Ph.D.
- Spolupracující organizace
-
Vysoké učení technické v Brně
- Odpovědná osoba Doc. RNDr. Miloslav Ohlídal, CSc.
- Odpovědná osoba Mgr. Petr Klapetek, Ph.D.
- Odpovědná osoba RNDr. Jiří Jankuj, CSc.
Vyvinutí nových metod návrhu systémů tenkých vrstev vyráběných v optickém průmyslu zahrnujících defekty vrstev a originálních metod charakterizace těchto systémů umožňujících zdokonalení kontroly kvality. Technologické změny depozice vrstevnatých systémů vyráběných v optickém průmyslu, jako jsou zrcadla s vysokou odrazivostí, antireflexní pokrytí, děliče světla a polarizátory, minimalizující jejich nedokonalosti především v ultrafialové oblasti spektra a umožňující nové progresivní aplikace.
Publikace
Počet publikací: 27
2014
-
Assessment of non-uniform thin films using spectroscopic ellipsometry and imaging spectroscopic reflectometry
Thin Solid Films, rok: 2014, ročník: 571, vydání: november, DOI
-
Dispersion model of two-phonon absorption: application to c-Si
OPTICAL MATERIALS EXPRESS, rok: 2014, ročník: 4, vydání: 8, DOI
-
Improved combination of scalar diffraction theory and Rayleigh-Rice theory and its application to spectroscopic ellipsometry of randomly rough surfaces
Thin Solid Films, rok: 2014, ročník: 571, vydání: November, DOI
-
Independent analysis of mechanical data from atomic force microscopy
Measurement Science and Technology, rok: 2014, ročník: 25, vydání: 4, DOI
-
Mapping of properties of thin plasma jet films using imaging spectroscopic reflectometry
MEASUREMENT SCIENCE & TECHNOLOGY, rok: 2014, ročník: 25, vydání: 11, DOI
-
Measurement of thickness distribution, optical constants, and roughness parameters of rough nonuniform ZnSe thin films
Applied Optics, rok: 2014, ročník: 53, vydání: 25, DOI
-
Utilization of the sum rule for construction of advanced dispersion model of crystalline silicon containing interstitial oxygen
Thin Solid Films, rok: 2014, ročník: 571, vydání: november, DOI