Project information
Optimalizace vrstevnatých systémů používaných v optickém průmyslu
- Project Identification
- TA02010784 (kod CEP: TA02010784)
- Project Period
- 1/2012 - 12/2015
- Investor / Pogramme / Project type
-
Technology Agency of the Czech Republic
- ALFA
- MU Faculty or unit
-
Faculty of Science
- prof. RNDr. Ivan Ohlídal, DrSc.
- Mgr. Daniel Franta, Ph.D.
- Mgr. David Nečas, Ph.D.
- Cooperating Organization
-
Brno University of Technology
- Responsible person Doc. RNDr. Miloslav Ohlídal, CSc.
- Responsible person Mgr. Petr Klapetek, Ph.D.
- Responsible person RNDr. Jiří Jankuj, CSc.
Vyvinutí nových metod návrhu systémů tenkých vrstev vyráběných v optickém průmyslu zahrnujících defekty vrstev a originálních metod charakterizace těchto systémů umožňujících zdokonalení kontroly kvality. Technologické změny depozice vrstevnatých systémů vyráběných v optickém průmyslu, jako jsou zrcadla s vysokou odrazivostí, antireflexní pokrytí, děliče světla a polarizátory, minimalizující jejich nedokonalosti především v ultrafialové oblasti spektra a umožňující nové progresivní aplikace.
Publications
Total number of publications: 27
2014
-
Assessment of non-uniform thin films using spectroscopic ellipsometry and imaging spectroscopic reflectometry
Thin Solid Films, year: 2014, volume: 571, edition: november, DOI
-
Dispersion model of two-phonon absorption: application to c-Si
OPTICAL MATERIALS EXPRESS, year: 2014, volume: 4, edition: 8, DOI
-
Improved combination of scalar diffraction theory and Rayleigh-Rice theory and its application to spectroscopic ellipsometry of randomly rough surfaces
Thin Solid Films, year: 2014, volume: 571, edition: November, DOI
-
Independent analysis of mechanical data from atomic force microscopy
Measurement Science and Technology, year: 2014, volume: 25, edition: 4, DOI
-
Mapping of properties of thin plasma jet films using imaging spectroscopic reflectometry
MEASUREMENT SCIENCE & TECHNOLOGY, year: 2014, volume: 25, edition: 11, DOI
-
Measurement of thickness distribution, optical constants, and roughness parameters of rough nonuniform ZnSe thin films
Applied Optics, year: 2014, volume: 53, edition: 25, DOI
-
Utilization of the sum rule for construction of advanced dispersion model of crystalline silicon containing interstitial oxygen
Thin Solid Films, year: 2014, volume: 571, edition: november, DOI